国际奖项档案
GOOD DESIGN® Awards
The Chicago Athenaeum: Museum of Architecture and Design / Metropolitan Arts Press Ltd.
芝加哥雅典娜建筑与设计博物馆相关设计项目,评价工业、产品及平面作品,与日本GOOD DESIGN为独立项目。
评价对象:设计作品
2026届 · 报名已截止
设计机构、制造商、企业、设计师
当前官方页列2023年1月以后设计或生产作品可申报相应产品和平面类别。
2026届资料 →
按页面标明的届次查看。下一届安排以主办方实际公布为准。
中企瑞诺可根据项目情况提供奖项研究、材料准备与申报管理服务。
本档案核验于2026-10-15。具体申报采用对应主办方的正式规则。
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